硅光平台
上海工研院硅光平台聚焦硅光关键工艺与集成技术的开发,支持光收发、光计算、光传感等多种硅光功能芯片的前沿研究,产品预研和小批量生产流片。工研院硅光平台拥有近5000平米洁净室,具备90nm高精度光刻,晶体外延、介质薄膜生长、干法及湿法刻蚀、掺杂、金属互连和在线工艺检测等成套关键工艺能力,并针对不同应用场景,实现了220nm SOI、1.5~3um SOI、SiN等多套集成工艺开发。2021年平台发布了基于0.18um工艺节点的220nm SOI PDK2.0,核心器件库性能达到国际主流水平。